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重磅!国产光刻胶通过量产验证

发布日期:2024-10-16 18:07:59   来源 : 深圳市华富康供应链股份有限公司    浏览量 :24
深圳市华富康供应链股份有限公司 发布日期:2024-10-16 18:07:59  
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据武汉东湖新技术开发区管理委员会(中国光谷)10 月 15 日消息,光谷企业在半导体专用光刻胶领域实现重大突破:

武汉太紫微光电科技有限公司(以下简称“太紫微公司”)推出的 T150 A 光刻胶产品,已通过半导体工艺量产验证,实现配方全自主设计,有望开创国内半导体光刻制造新局面。

图源 | 中国光谷

据官方介绍称,T150 A对标国际头部企业主流KrF光刻胶系列。相较于被业内称之为‘妖胶’的国外同系列产品 UV1610,在光刻工艺中表现出的极限分辨率达到120nm,且工艺宽容度更大,稳定性更高,坚膜后烘留膜率优秀其对后道刻蚀工艺表现更为友好。
此外,通过验证发现,T150 A中密集图形经过刻蚀,下层介质的侧壁垂直度表现优异。

图源 | 太紫微光电

对此,太紫微公司企业负责人、英国皇家化学会会员、华中科技大学教授朱明强表示:
“以原材料的开发为起点,最终获得具有自主知识产权的配方技术,这只是个开始,我们团队还会发展一系列应用于不同场景下的KrF与ArF光刻胶,为国内相关产业带来更多惊喜。”

END

来源 | 中国光谷



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